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中微公司:第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台顺利付运
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来源:互联网
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2021-11-03
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11 月 3 日消息,昨日,中微公司宣布,电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重绿蔷薇国语版全集
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